百级氮气烘箱   掩膜版无尘烘箱   半导体高温洁净烘箱  使用工艺

      在掩膜版的生产制造过程中，掩膜版基板在光阻涂布后会有一个烘烤的环节，又称为前烘。目的是用加热蒸发的方式祛除掩膜版上光阻中多余的溶剂，增强光阻与掩膜版基板之间的粘附力，并使光阻起到固化的作用；同时，涂覆光阻后的掩膜版在曝光显影后也需要做显影后烘，目的是祛除掩膜版上多余的水分、残留溶剂和消除驻波效应。

     掩膜版制作工艺，包括如下步骤：S1、涂胶：提供一光学高分子PC复合板材，在所述光学高分子PC复合板材表面旋涂抗反射中性密着层，在所述抗反射中性密着层上旋涂中性UV光刻胶；S2、光刻：通过光刻直写掩膜机对中性UV光刻胶进行激光曝光；S3、显影：将光刻后的光学高分子PC复合板材置于一显影槽进行浸泡显影，所述显影槽内设有显影液；S4、坚膜。

百级氮气烘箱   掩膜版无尘烘箱   半导体高温洁净烘箱  性能

全周激光满焊，SUS304＃不锈钢电热产生器，防机台本身产生微尘；

采用特殊风道，水平送风，温度均匀性佳；

可定值运行，多段程序运行；

设备采用双腔室一体设计，独立控制，节省空间；

温度范围： RT+10～200、300/400℃；

温度均匀度：≤±1.5℃；

洁净度：class100/1000，适用洁净间；

设备尺寸：定制

计时功能：0~ 99H99M可调，到温计时，计时完成蜂鸣并停止加热；

降温方式：可选配

保温材料：超细陶瓷纤维；

隔 板：1-10层，；

温度测量传感器：高精度铂电阻；

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