纳米球型外观为为无定形白色粉末，粒子尺寸范围在100~500纳米，微结构为球型，呈絮状和网状的准颗粒结构纳米球型二氧化的用途多，将纳米球型二氧化硅做成抛光蜡可改善材料表面的光洁度。研磨粉高纯球型二氧化硅用于光学器件及光电行业的研磨, 特别适合研磨、抛光半导体单晶多晶硅片、显像管玻壳玻屏、光学玻璃、液晶显示器(LCD、LED)玻璃基板、英晶体、化合物半导体材料(磷化铟)、磁性材料等半导体行业。

抛光粉通过超细、分级制备的超微粉,是金属件良好的抛光洗涤磨料,如在洗涤轴承中应用,光洁度可达3.0以上,优于同类产品.另外用于抛光金属表面、阀门的抛光,汽车抛光剂,均有很好的效果,因其颗粒球型,区别于传统磨料的等积型,这种形状使磨料颗粒在研磨运动中在被加工工件表面,产生滑动的研磨效果,而非传统磨料的研磨,因而不容易对工件表面产生随机划伤。同时,由于研磨压力是均匀分布在磨粒表面,颗粒破碎减少,不易磨损大幅提高,因而能提供的磨削效率和表面光洁度。实验表明,研磨粉能够减少研磨和抛光次数至少10-20%,能够实现快速研磨和抛光。

利用高纯球型二氧化硅造成的纯硅溶胶抛光液,主要用于硅晶圆片的抛光,集成电路的CMP抛光液调制,使用在各种尺寸的Si片, Ge片, GaAs片, 集成电路中的ILD及导线, 石英玻璃,硬盘基片,IC电路,光电子晶体材料, LED蓝宝石衬底片材料等的表面化学机械抛光(CMP)加工上。尤其一步的抛光。