微弧氧化技术的研究经历了几十年的发展，自交流微弧氧化技术出现以来，取得了飞跃的发展，并向实用化迈出了一大步。然而，由于合金微弧氧化表面陶瓷处理刚刚开始，存在许多技术问题。

　　（1）开发节能电源。微弧氧化工艺在加工过程中单位面积能耗大，限制了加工工件的面积。

　　（2）对氧化膜组织结构和生长影响规律研究不足。微弧氧化膜的组织结构除了受到电解液体系的影响外，还对其产生了重要的影响。脉冲电参数（电压或电流密度、频率和正负电流密度比）对氧化膜组织结构的影响规律尚未进行深入系统的研究；通过电参数的协调调整，可以优化组织结构。例如，在控制放电火花时，膜层可以获得良好的表面粗糙度。

　　（3）对电解质成分在氧化膜形成过程中的作用机研究不足。目前的研究主要集中在对氧化膜中氧化物和化学元素含量的分析和膜特性的研究上，对膜中氧化物的形成机理和化学元素在膜形成过程中的作用研究不足。优良的电解质系统配方基本上是通过多次试验获得的，电解质配方不能根据膜的使用性能自由设计。

　　（4）氧化膜的膜基结合。实验结果表明，钛合金过渡层尺寸略大于铝镁合金微弧氧化膜，基体与过渡层分层明显，氧化膜与基体结合力差。

　　（5）缺乏对大比例生成致密层的机理和工艺的研究。在氧化膜的三层结构中，只有致密层是主要的工作层，这将是微弧氧化过程的一个重要研究方向，减少疏松层的厚度，提高致密层在膜中的比例，进而达到无疏松层的氧化膜。